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光刻機是半導體制造中至關重要的設備，用于制造集成電路。目前，光刻機市場正呈現出穩步增長的態勢。隨著5G、人工智能、物聯網等新興技術的不斷發展，對芯片的需求不斷增加，推動了光刻機市場的發展。同時，新一代芯片制造工藝的推出，也要求光刻機具有更高的分辨率、更快的速度和更大的制造尺寸。因此，光刻機制造商在不斷進行技術創新，推出更加先進的產品來滿足市場需求。

據業界信息，High NA EUV技術是EUV技術的進一步發展。NA代表數值孔徑，表示光學系統收集和聚焦光線的能力。數值越高，聚光能力越好。荷蘭光刻機巨頭阿斯麥(ASML)的High NA EUV設備是芯片制造商制造2nm工藝節點芯片的必備設備，每臺設備的成本超過5000億韓元。目前，ASML的High NA EUV光刻機**兩臺，如此限量版的EUV關鍵設備必然無法滿足市場對先進制程芯片的需求，為此ASML布局步伐又邁一步。

ASML**財務官Roger Dassen在近期一次電話會議上透露，臺積電和英特爾這兩個公司**客戶將獲得高數值孔徑極紫外(EUV)光刻機，將于年底前交付。

英特爾已率先訂購并接收了全球首臺High NA EUV光刻機，該設備已于2023年12月底運抵英特爾位于俄勒岡州的芯片制造工廠。至于臺積電，目前尚未明確其接收設備的具體時間，但該公司代表表示，他們正與半導體設備供應商緊密合作，以確保計劃的順利進行。

據悉，ASML的這種光刻機造價3.5億歐元(約合3.8億美元)，相當于兩架空中客車A320飛機的重量。阿斯麥是全世界**一家使用極紫外技術的光刻機制造商，對其產品的需求是該行業發展軌跡的試金石。

受此影響，ASML股價周三上漲8.1%，市值達到3770億歐元(約合4100億美元)，**超過法國奢侈品巨頭路威酩軒集團，成為歐洲第二大上市公司。

近期也是臺積電“換帥”期，6月4日，臺積電在股東大會上宣布，總裁魏哲家正式接替劉德音擔任公司董事長一職。這意味著，魏哲家成為臺積電多年來**同時擔任董事長和CEO職務的人。自此，臺積電正式進入由魏哲家**掌舵時代。

談到臺積電競爭與前景，魏哲家直言，臺積電技術**同業，占據有利位置，到目前沒有人可以競爭，會繼續保持優勢，持續進步技術，**不會停下來。

回看光刻機行業發展情況：

——光刻機是芯片制造、高端光刻膠研發的重要裝備

光刻機又名：掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統等，是制造芯片的核心裝備，也是光刻膠材料研發的重要設備，根據晶瑞電材的集成電路制造用高端光刻膠研發項目信息，設備及安裝費占總投資額的69%，而光刻機就占設備及安裝費的44%。

——全球光刻機銷量情況

目前，全球光刻機市場的集中度極高，前三大廠商的市場份額占比達90%以上。數據顯示，2015-2020年，全球光刻機銷售量總體增長，2020年達413臺，同比增長16.7%。

——荷蘭ASML公司占全球光刻機龍頭地位

從TOP3企業的競爭格局來看，2020年，荷蘭ASML公司占比63%，出貨量達到258臺，力壓尼康和佳能：

——EUV光刻機單臺價值高達1.5億歐元

由于EUV光刻機的高技術壁壘，也造就了其高價值特征。當前，全球**荷蘭的ASML公司有能力生產EUV光刻機。

根據該公司的EUV光刻機售價顯示，2018年以來，該公司的EUV光刻機價格也不斷上揚，2021年7月4日，約為1.54億歐元/臺，折合人民幣11.7億元(以1歐元兌7.6元人民幣換算)。

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